Дмитрий Евгеньевич Шашин — канд. техн. наук, доцент; кафедра конструирования и производства радиоаппаратуры
Йошкар-Ола
Dmitry E. Shashin — PhD, Associate Professor; Department of Radio Equipment Design and Production
Yoshkar-Ola
Алексей Леонидович Романов — магистрант; кафедра конструирования и производства радиоаппаратуры
Йошкар-Ола
Alexey L. Romanov — Graduate Student; Department of Radio Equipment Design and Production
Yoshkar-Ola
Алексей Дмитриевич Дьячков — аспирант; кафедра конструирования и производства радиоаппаратуры
Йошкар-Ола
Alexey D. Dyachkov — Post-Graduate Student;Department of Radio Equipment Design and Production
Yoshkar-Ola
Эдуард Михайлович Трачук — магистрант; кафедра конструирования и производства радиоаппаратуры
Йошкар-Ола
Eduard M. Trachuk — Graduate Student; Department of Radio Equipment Design and Production
Yoshkar-Ola
Алексей Николаевич Смирнов — инженер аналитической лаборатории
Йошкар-Ола
Anton V. Ivanov —Analytical Laboratory Engineer
Yoshkar-Ola
Антон Витальевич Иванов — инженер аналитической лаборатории
Йошкар-Ола
Alexey N. Smirnov — Analytical Laboratory Engineer
Yoshkar-Ola
Обсуждается применение эффекта квазизамкнутого пространства при формировании проводящих пленок на керамике магнетронным распылением, которое предоставляет наиболее гибкие возможности варьирования технологических условий и влияния за счет этого на характеристики получаемых пленок. Одним из технологических условий магнетронного распыления, оказывающим влияние на однородность состава получаемой пленки, является формирование квазизамкнутого пространства в зоне осаждения пленки. Предложен вариант реализации квазизамкнутого пространства и сформированы серии пленок меди с применением квазизамкнутого пространства и без его применения. Определена адгезия, удельное поверхностное сопротивление полученных пленок, а также с помощью растровой электронной микроскопии определена толщина и оценена однородность полученных структур. Снижение количества дефектов проводящих пленок связано с более высоким давлением в зоне формирования пленки по отношению к остальному пространству вакуумной камеры при реализации квазизамкнутого пространства, разница давлений и плазмообразующего газа позволяет, с одной стороны, стабилизировать основные характеристики магнетронного разряда, а следовательно, и процесса формирования пленки, а с другой — минимизировать возможность включения в структуру пленки загрязняющих включений различного рода.
The application of the quasi-closed space effect in the formation of conductive films on ceramics by magnetron sputtering is discussed. This method provides the most flexible possibilities for varying process conditions and thereby influencing the characteristics of the resulting films. One of the process conditions of magnetron sputtering that affects the homogeneity of the composition of the resulting film is the formation of a quasi-closed space in the film deposition zone. A variant of implementing a quasi-closed space is proposed, and a series of copper films are formed using a quasi-closed space and without it. Adhesion and specific surface resistance of the films are determined, and the thickness is determined and the homogeneity of the structures obtained is estimated using scanning electron microscopy. The reduction in the number of defects in conductive films is associated with a higher pressure in the film formation zone in relation to the rest of the vacuum chamber space when implementing a quasi-closed space; the difference in pressure and plasma-forming gas allows, on the one hand, to stabilize the main characteristics of the magnetron discharge, and consequently the film formation process, and on the other hand, to minimize the possibility of including various types of contaminating inclusions in the film structure.
The authors declare that there are no conflicts of interest present.