ПРИМЕНЕНИЕ КОМПЬЮТЕРНОЙ ИЗОФОТОМЕТРИИ ПРИ КОНТРОЛЕ ОБЪЕКТИВА ДЛЯ НАНОЛИТОГРАФА
Санкт-Петербургский государственный университет инфор-мационных технологий, механики и оптики; профессор
Гаврилов Е. В.
Университет ИТМО; аспирант
Жевлаков А. П.
Университет ИТМО, Санкт-Петербург, 197101, Российская Федерация; ведущий инженер
Читать статью полностью
Аннотация. Рассмотрены современные предпосылки развития микроэлектроники: углубление в вакуумно-ультрафиолетовый рабочий диапазон, создание и применение зеркальных объективов предельной точности, построенных по схеме Шварц- шильда, когда требования к точности измерения ошибок строже, чем λ/100 для λ =0,633 мкм. На стадии финишной доводки оптических поверхностей объекти- ва, в дополнение к дифракционной интерферометрии, необходима оценка каче- ства изображения, сформированного объективом, с использованием прямого метода изофотометрии структуры изображения точки, чем преодолевается не- достаток чувствительности интерференционного контроля.
Ключевые слова:
нанолитограф, зеркальный объектив, дифракционная интерферометрия, компьютерная изофотометрия.
