НАНЕСЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК СИЛИЦИДОВ МЕТАЛЛОВ МЕТОДАМИ PLD И LIFT
;
Кудрявцев Ю. В.
;
Горбачук Н. Т.
;
Лучес А. .
;
Карикато А. П.
;
A. A. Petrov
ITMO University, 197101, Saint-Petersburg, Russian Federation; Associate professor
V. A. Chuiko
ITMO University; senior lecturer
Abstract. Для осаждения тонких пленок и слоев использованы импульсное лазерное осаждение и лазерно-индуцированный перенос пленок. Излучением KrF-лазера произведена абляция материала мишени из CrSi2 или β-FeSi2 с целью получения тонкой пленки или слоя силицида с малой шириной запрещенной зоны для последующего использования в качестве чувствительного элемента сенсора.
