НАНЕСЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК СИЛИЦИДОВ МЕТАЛЛОВ МЕТОДАМИ PLD И LIFT
;
Кудрявцев Ю. В.
;
Горбачук Н. Т.
;
Лучес А. .
;
Карикато А. П.
;
Петров А. А.
Университет ИТМО, Санкт-Петербург, 197101, Российская Федерация; доцент
Чуйко В. А.
Университет ИТМО; старший преподаватель
Аннотация. Для осаждения тонких пленок и слоев использованы импульсное лазерное осаждение и лазерно-индуцированный перенос пленок. Излучением KrF-лазера произведена абляция материала мишени из CrSi2 или β-FeSi2 с целью получения тонкой пленки или слоя силицида с малой шириной запрещенной зоны для последующего использования в качестве чувствительного элемента сенсора.
