DOI 10.17586/0021-3454-2025-68-9-799-808
УДК 629.7.036:621.373
ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ АСПЕКТЫ ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНЫХ ФУНКЦИОНАЛЬНЫХ СТРУКТУР НА ПОВЕРХНОСТЯХ УЗЛОВ АКСЕЛЕРОМЕТРОВ
АО «Концерн «ЦНИИ «Электроприбор», Санкт-Петербург, 197046, Российская Федерация; научный сотрудник
Юльметова О. С.
АО «Концерн «ЦНИИ «Электроприбор», Санкт-Петербург, 197046, Российская Федерация; Университет ИТМО, Санкт-Петербург, 197101, Российская Федерация; начальник сектора; профессор практики
Беляев С. Н.
АО «Концерн «ЦНИИ «Электроприбор», Санкт-Петербург, 197046, Российская Федерация; старший научный сотрудник
Щербак А. Г.
АО «Концерн «ЦНИИ «Электроприбор», Санкт-Петербург, 197046, Российская Федерация ; начальник сектора
Щербак С. А.
Академический университет НОЦНТ РАН, кафедра физики и технологии наногетероструктур; студент
Ссылка для цитирования : Тит М. А., Юльметова О. С., Беляев С. Н., Щербак С. А., Щербак А. Г. Технологические аспекты формирования тонкопленочных функциональных структур на поверхностях узлов акселерометров // Изв. вузов. Приборостроение. 2025. Т. 68, № 9. С. 799–808. DOI: 10.17586/0021-3454-2 025-68-9-799-808.
Аннотация. Рассматривается технология формирования тонкопленочных функциональных покрытий на плоских поверхностях прецизионных акселерометров методом магнетронного напыления на примерах нанесения алюминия при изготовлении пластины-основания чувствительного элемента микромеханического акселерометра. Представлена математическая модель формирования покрытия равномерной толщины на плоской поверхности, определены основные значимые параметры процесса напыления. Оптимизируемым параметром выбран угол ориентации подложки относительно мишени магнетрона, а критерием оптимизации служит минимальное значение среднеквадратического отклонения толщины покрытия. Эффективность предложенной модели подтверждается практическими результатами исследований характеристик полученных покрытий.
Аннотация. Рассматривается технология формирования тонкопленочных функциональных покрытий на плоских поверхностях прецизионных акселерометров методом магнетронного напыления на примерах нанесения алюминия при изготовлении пластины-основания чувствительного элемента микромеханического акселерометра. Представлена математическая модель формирования покрытия равномерной толщины на плоской поверхности, определены основные значимые параметры процесса напыления. Оптимизируемым параметром выбран угол ориентации подложки относительно мишени магнетрона, а критерием оптимизации служит минимальное значение среднеквадратического отклонения толщины покрытия. Эффективность предложенной модели подтверждается практическими результатами исследований характеристик полученных покрытий.
Ключевые слова: тонкопленочное покрытие, магнетронное напыление, равномерность толщины, акселерометр
Благодарность: работа выполнена при финансовой поддержке Министерства науки и высшего образования Российской Федерации, госзадание № FSRM-2023-0009.
Список литературы:
Благодарность: работа выполнена при финансовой поддержке Министерства науки и высшего образования Российской Федерации, госзадание № FSRM-2023-0009.
Список литературы:
- Юльметова О. С. Ионно-плазменные и лазерные технологии в гироскопическом приборостроении: Автореф. … д-ра техн. наук СПб: ЦНИИ „Электроприбор“, 2019.
- Беляев С. Н., Щербак А. Г. Технологические аспекты формирования тонкопленочных электродов подвеса на узлах электростатического градиентометра // Материалы XXXIII конф. памяти Н. Н. Острякова. СПб: ЦНИИ „Электроприбор“, 2022.
- Распопов В. Я. Микромеханические приборы. Тула: Тульский госуниверситет, 2002. с. 7–95.
- Петропавловский Ю. Инерциальные приборы и МЭМС микросхемы компании Analog Devices для систем ав- томатики, навигации и автомобильной электроники. Часть 1 // Радиолоцман. 2015. Ноябрь.
- Бойко А. Н., Заводян А. Р., Симонов Б. М. Микромеханические акселерометры. Моделирование элементов кон- струкции и изготовление // Электроника: Наука, Технология, Бизнес. 2009. № 8. С. 100–103.
- Божков В. Г. Контакты металл-полупроводник: физика и модели. Томск: Изд. дом Томск. гос. ун-та, 2016. 528 с.
- Данилин Б. С., Сырчин В. К. Магнетронные распылительные системы. М.:, Радио и связь, 1982. 72 с.
- Данилин Б. С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М.: Энергоатомиздат, 1989. 328 с.
- Черниговский В. В., Марцынюков С. А., Лисенков А. А., Кострин Д. К. Исследование распределения толщины покрытий, наносимых методом магнетронного распыления // Изв. СПбГЭТУ „ЛЭТИ“. 2018. № 4. С. 5–12.
- Сагателян Г. Р., Шишлов А. В. Анализ распределения толщины тонкопленочного покрытия при магнетронном напылении на установках с планетарным перемещением подложки // Наука и образование. МГТУ им. Н. Э. Баумана. 2014. № 11. С. 458–481.
- Черкунов В. И. Оптимизация неравномерности магнетронного напыления пленок алюминия и оксида алюми- ния при взаимном перемещении подложки и магнетрона // Изв. СПбГЭТУ „ЛЭТИ“. 2025. Т. 18, № 1. С. 1421. DOI: 10.32603/2071-8985-2025-18-1-14-21.
- Морачевский А. Г. и др. Прикладная химическая термодинамика. СПб: Изд-во Политехн. ун-та, 2008. 254 с.
- Диаграммы состояния двойных металлических систем. Т. 1 / Под ред. Н. П. Лякишева. М.: Машиностроение, 1996. 992 с.
- Усольцева Д. С. Электронная, атомная структура и фазовый состав композитных Al–Si: Автореф. … канд. физ.-мат. наук. Воронеж: Воронеж. гос. ун-т, 2018.








