ISSN 0021-3454 (печатная версия)
ISSN 2500-0381 (онлайн версия)
Меню

10
Содержание
том 61 / ОКТЯБРЬ, 2018
СТАТЬЯ
УДК 535.51

ЭЛЛИПСОМЕТРИЯ НЕОДНОРОДНЫХ ПОВЕРХНОСТНЫХ СЛОЕВ АНИЗОТРОПНЫХ ОПТИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ

Новиков А. А.
Университет ИТМО, кафедра твердотельной оптоэлектроники; аспирант


Храмцовский И. А.
Университет ИТМО, 197101, Российская Федерация; вед. инженер


Иванов В. Ю.
Университет ИТМО, кафедра твердотельной оптоэлектроники; аспирант


Федоров И. С.
Университет ИТМО, кафедра твердотельной оптоэлектроники; аспирант


Туркбоев А. .
Университет ИТМО; профессор кафедры ТТОЭ


Читать статью полностью 

Аннотация. Изложены методы определения элементов нормированной матрицы отражения и основных эллипсометрических параметров анизотропных отражающих систем. Дано экспериментально-теоретическое обоснование применения обобщенных уравнений эллипсометрии в приближении Друде — Борна при определе- нии поляризационно-оптических характеристик неоднородных поверхностных слоев анизотропных элементов оптоэлектроники. Показано, что при полировании и ионной обработке кристаллического кварца в приповерхностной области образуется аморфизированный слой, наличие которого приводит к потерям оп- тического излучения в ВУФ-области спектра.
Ключевые слова:

эллипсометрия, оптические соединения, элементы опто- электроники, анизотропные оптические элементы.